Очень многие были близки к разгадке! Хочу отметить таких читателей как:
"Это ваккумная камера" сообщили: smthng_strange, dimorlus, ll_ovod_ll
"для получения полупроводников, кремния": kobold_wizard
Пирометр распознали: humanoid_liv,cyfir
СVD распознали: korshak_v, twi1ightsparkle
Странно, что никто не подумал на простой испаритель в вакууме.
К сожалению, никто не распознал HW-CVD, хотя в разделе CVD на вики HW-CVD присутсвует. Подсказка была: пирометр. Никто не отметил старые, добрые турбики (турбомолекулярные насосы). Они внизу, вниз люди не смотрят...
Но все равно, я думаю результат отличный.
теперь разгадка:
Эта "малышка" служила верой и правдой. Не имела никакого автоматического управления (всё в ручную) и лаборатория распалась в 2005 году. Надеюсь, что камеры еще работают под Манхаймом. На фото видно три камеры осаждения тонкопленочного кремния. Слева: донор-легирование, справа- не легированный слой с in-situ измерением (эллипсометр) и по центру: акцептор-легирование.
Температура 2030 С это температура отжига в камере танталовой нити, чтобы избавиться от силицидов.
CVD с горячей нитью — также известен как каталитический CVD (HW-CVD или Cat-CVD). Использует горячий носитель для ускорения реакции газов.
Проще говоря: камеру откачивают, напускают некий газ, как в лампочке раскаляют металическую нить-спираль-проволку. Молекулы газа от температуры расщепляются. Ионов нет (почти). Весь этот "супчик" взаимодействует со всем до чего "долетает".
Метод очень простой и "дешевый".
Я часто слышал от немцев, что этот метод изобрели мы, русские. Был удивлен. Но никаких следов в интернете этого не нашел! Помню лишь картинки 30 летней давности где силан разлагался при помощи раскаленной фольги:
Из патента:Wiesmann, Method of producing hydrogenated amorphous silicon film. 2.12.1980 года.
Что получают таким методом? Различные пленки. Пленки на основе кремния, MEMS, алмазоподобные, упрочняющие покрытия (по-немецки звучит классно: "диаманттехнологи").
Community Info